工作原理：

射频离子源采用感应耦合产生等离子体(Inductive Coupled Plasma)，然后通过叁栅离子引出系统加速引出离子，从而形成离子束，有能离子持续作用于基体表面或者膜层，达到清洁表面和改善膜层结构的效果。该离子源没有热阴极，因此单次持续工作的时间会更长，镀膜洁净程度会更高。

产品作用：

1. 提高膜层结合力；

2. 提高膜层致密性；

3. 减小吸收。

4. 刻蚀；

5. 溅射。

产品特点：

1. 离子能量高：最高可达1200eV、2000eV或更高；

2. 离子束流密度大：束流密度是考夫曼离子源的两倍以上；

3. 工作真空高：可在10^-3Pa内工作，保证膜层品质；

4. 污染更小：更少的耗材，因此产生更小的污染；

5. 连续工作时间更长：由于无阴极损耗件，理论连续工作时间可达数百小时；

6. 作用显著：提高膜层致密性、牢固度和折射率方面作用显著。

技术参数：

离子源图片：

离子源枪头.jpq

离子源控制器.jpg

离子源工作图片.jpg