GK08

工作原理：

离子源由独立的放电室和双栅离子引出系统等组成，工作时，气体导入放电室内，并离化形成等离子体，离子通过鞘层进入双栅加速区汇聚成离子束被引出。通过特殊的离子源放电室设计，得到聚焦离子束。在很小的束斑（≤5cm）的面积内得到20mA/cm2的离子束流，从而提高靶材的溅射速率和靶材利用率，同时减少杂志原子对沉积薄膜的污染。

产品特点：

1.        离子能量高：最高可达1200eV、2000eV或更高；

2.        束流密度高：最高可达20mA/cm2；

3.        工作真空高：本地真空可达10-6Pa，可在10^-3Pa内工作，保证膜层品质；

4.        使用便利：法兰式整体安装，密封程度高，保养维护方便；

5.        性价比高: 相对RF离子源，该源价格、运行和维护成本非常低。

 技术参数：

实物照片：

工作照片：

外型尺寸：