设计目标：

近些年，市场对光学薄膜产品的牢固度、致密性，以及漂移等性能指标的要求越来越高，原有的K12和K13离子源最大束流为120mA，已经显得不能满足部分工艺的要求，为此，我们设计了这款GK14离子源。设计目标为：原有K12、K13离子源的外型尺寸不在增加，离子束流增加50%，在相同的条件供给下，离子源最大输出束流密度不小于原来的150%。

经过一年多的设计、试验和反复改进，GK14现已完全实现设计目标，并于2023年1月份开始成功出货。

工作原理：

离子源由独立的放电室和双栅离子引出系统等组成，工作时，气体导入放电室内，并离化形成等离子体，离子通过鞘层进入双栅加速区汇聚成离子束被引出。该有能离子持续作用于基体表面或者膜层，达到清洁表面和改善膜层结构的效果。

产品作用：

1. 提高膜层结合力；

2. 提高膜层致密性；

3. 减小漂移；

4. 减小吸收；

5. 刻蚀、溅射。

产品特点：

1. 离子能量高：最高可达600eV、1200eV、2000eV或更高；

2. 工作真空高：可在10^-3Pa内工作，保证膜层品质；

3. 作用显著：提高膜层致密性、牢固度和折射率方面作用显著；

4. 使用便利：新型结构，解决了原来栅网和阳极拆卸、维护和安装繁琐的问题；同时优化了离子源控制器的结构，在功率增加的情况下，降低了控制器高度，节省了用户空间；

5. 性价比高: 相对RF离子源，该源价格、运行和维护成本非常低。

技术参数：

外型尺寸：

产品图片：