工作原理：

离子源由独立的放电室和双栅离子引出系统等组成，工作时，气体导入放电室内，并离化形成等离子体，离子通过鞘层进入双栅加速区汇聚成离子束被引出。高能离子持续作用于基体表面或者膜层，实现材料注入参杂和增加基体与覆膜材料结合力的效果。

产品作用：

用于离子注入，实现材料参杂，或增加基体和覆镀材料之间的结合牢固程度。

产品特点：

1. 离子能量高：离子能量范围覆盖5KeV～80KeV；

2. 工作真空高：可在10^-3Pa内工作，保证膜层品质；

3. 作用显著：实现材料参杂，提高膜层结合力；

4. 使用便利：新型结构，使用维护方便；

5. 安全可靠：使用光纤通讯，操作安全，抗干扰能力强。

技术参数：

产品图片：