工作原理：

离子源由独立的放电室和双栅离子引出系统等组成，工作时，气体导入放电室内，并离化形成等离子体，离子通过鞘层进入双栅加速区汇聚成离子束被引出。该离子持续作用于基体表面或者膜层，达到清洁表面和改善膜层结构的效果。

产品作用：

1.提高膜层结合力；

2.提高膜层致密性；

3.减小吸收。

4.刻蚀；

5.溅射。

产品特点：

1.离子能量高:高可达600eV、1200eV、2000eV或更高；

2.工作真空高:可在10^-3Pa内工作，保证膜层品质；

3.作用显著:提高膜层致密性、牢固度和折射率方面作用显著；

4.使用便利:新型结构，解决了原来栅网和阳极拆卸、维护和安装繁琐的问题；

5.性价比高:相对RF离子源，该源价格、运行和维护成本非常低。

技术参数：

外型尺寸：